Filmetrics? F50 Automatischer Schichtdickenmapper

wafer thickness map pattern across a semiconductor wafer

Produktbeschreibung

Mit dem fortschrittlichen spektralen Reflexionssystem F50 lassen sich Schichtdicken von Proben mit einem Durchmesser von bis zu 450 mm schnell und einfach abbilden. Der motorisierte R-Theta-Tisch bewegt sich automatisch zu ausgew?hlten Messpunkten und liefert Schichtdickenmessungen mit einer Geschwindigkeit von bis zu zwei Punkten pro Sekunde. Der hochpr?zise und langlebige Messtisch kann Millionen von Messungen durchführen und eignet sich hervorragend für Produktionsumgebungen.

3D thickness Wafer Map of siO2 sample on Filmetrics F54

Produktmerkmale

Branchenführende Schichtdickenmesssysteme
Intuitive Analysesoftware ist standardm??ig in jedem System enthalten
Bibliothek mit über 130 Materialien in jedem System enthalten
USB-betrieben
24 Stunden (Mo–Fr) Telefon-, E-Mail- und Online-Support durch Applikationsingenieure
Das Systempaket umfasst integrierte Spektrometer-/Lichtquelleneinheit, einen ND-Filter, Reflexionsstandards, Dickenstandards und mehr!

color coded wafer map of a semiconductor wafer

Anwendungen

Automatisierte Schichtdickenkartierung der meisten glatten, nichtmetallischen Filmschichten, einschlie?lich:

SiO₂
Fotolack
SiN_x
Polymerschichten
DLC
Polyimid
Polysilizium
Amorphes Silizium

see-through front end of car representing industries

Branchen

Halbleiterfertigung

Fotolack, Oxide/Nitride/SOI, Wafer-Backgrinding

LCDs

Zelllücken, Polyimid, ITO und andere TCOs

Optische Beschichtungen

Hartschichtdicke, Antireflexionsbeschichtung

MEMS

Fotolack
Siliziummembranen

Weitere Details finden Sie auf der Registerkarte Branchen.

W?hlen Sie die richtige Filmetrics F50-Konfiguration für Ihre Messungen

Die verschiedenen F50-Ger?te unterscheiden sich haupts?chlich durch den Schichtdickenmessbereich, der wiederum durch den Wellenl?ngenbereich des Ger?ts bestimmt wird. Für die Messung dünnerer Filme sind kürzere Wellenl?ngen (F50-UV) erforderlich, w?hrend l?ngere Wellenl?ngen für die Messung rauerer, dickerer und opakerer Filme erforderlich sind.

Diagram showing wavelength ranges of Filmetrics F50 instruments

Modell	Schichtdickenbereich*	Wellenl?ngenbereich
F50	20nm – 70?m	380 – 1050nm
F50-UV	5nm – 40?m	190 – 1100nm
F50-NIR	100nm – 250?m	950 – 1700nm
F50-EXR	20nm – 250?m	380 – 1700nm
F50-UVX	5nm – 250?m	190 – 1700nm
F50-XT	0.2?m – 450?m	1440 – 1690nm
F50-s980	4?m – 1mm	960 – 1000nm
F50-s1310	7?m – 2mm	1280 – 1340nm
F50-s1550	10?m – 3mm	1520 – 1580nm

*Abh?ngig vom Filmstapel

Messung der Fotolackdicke

Mehrere Einzelpunkt-Tisch- und Mapping-Tools, darunter das F3-sX, das Filmetrics F50 und das Filmetrics F60-t, messen die Fotolackdicke und die ?tzrate von einschichtigen, mehrschichtigen und sogar freistehenden Fotolacken. Alle Filmetrics-Modelle messen die Photoresistdicke (und den Index) durch eine pr?zise Modellierung der spektralen Reflexion. Spezielle propriet?re Algorithmen erm?glichen eine robuste Analyse mit nur einem Klick, wobei Ergebnisse normalerweise in weniger als einer Sekunde verfügbar sind. Die Messung der Dicke von SU-8, Dow BCB und anderen dicken Fotolacken sind beliebte Anwendungen für die Filmetrics-Produktlinie.

Schichtdickenmessung für por?ses Silizium

Por?ses Silizium wird in vielen verschiedenen Anwendungen eingesetzt, darunter optische Ger?te, Gassensoren und biomedizinische Ger?te.

Zu den für die Industrie interessanten Messungen por?ser Schichten z?hlen Schichtdicke und Porosit?t. Im Allgemeinen werden zerst?rungsfreie Methoden wie gravimetrische Messungen verwendet, um die Porosit?t zu messen, aber die Genauigkeit dieser Methode ist sehr gering. Filmetrics^? F50 bietet einen kostenlosen, einzigartigen Analysealgorithmus, der Schichtdicke, den Index und die Porosit?t von por?sem Silizium mit einem einzigen Mausklick ermittelt.

Messung von Halbleiterprozessfilme

Die Filmetrics^?-Produktlinie bietet eine umfassende Palette von Ger?ten und Systemen zur Messung der Dicke und des Indexes von nichtmetallischen Halbleiterprozessfilme.

Das Filmetrics F50 Schichtdickenmessger?t misst die Schichtdicke genau und bildet vollfl?chige Filme automatisch Punkt für Punkt ab.

Unsere patentierte Schichtdickenbildtechnologie erm?glicht eine einfachere Einrichtung, weniger Rezepte, eine robustere Mustererkennung und wesentlich geringere Kosten als herk?mmliche Schichtdicken-Messtechnikwerkzeuge.

Messung der Siliziumscheibe und Membrandicke

Die Filmetrics^?-Systeme umfassen Tisch-, Mapping- und Produktionssysteme zur Messung der Dicke von Siliziumscheiben und Membranen. Zu den üblicherweise gemessenen Wafermaterialien z?hlen einfach oder doppelt poliertes Si (Silizium), Saphir, Quarzglas, SiC, LiTaO₃, GaN und Glas.

Unsere technischen Experten k?nnen Ihnen helfen, das beste Filmetrics-Tool zu für die Anforderungen Ihrer Schichtdickenmessung zu finden. Dazu geh?ren z. B. die Notwendigkeit verschiedener Schichtdickenbereiche oder eine Einzelpunktmessung im Vergleich zu einer Schichtdickenkartografierung usw.

51吃瓜